H2Oイオンによる照射によるフッ素樹脂の表面改質
H2Oイオンによる照射によるフッ素樹脂の表面改質
カテゴリ: 全国大会
論文No: 3-140
グループ名: 【全国大会】平成17年電気学会全国大会論文集
発行日: 2005/03/15
タイトル(英語): Surface modification of fluorocarbon polymer by H2O ion irradiation
著者名: 山下 修平(姫路工業大学),瀬戸本 豊(兵庫県立大学),植田 寛康(東海理化),糸魚川 貢一(東海理化),奥田 孝一(兵庫県立大学),服部 正(兵庫県立大学)
著者名(英語): Shuhei Yamashita(Himeji Institute of Technology),Yutaka Setomoto(University of Hyogo),Hiroyasu Ueda(TOKAIRIKA co.,LTD.),Kouichi Itoigawa(TOKAIRIKA co.,LTD.),Kouichi Okuda(University of Hyogo),Tadashi Hattori(University of Hyogo)
キーワード: 表面改質|親水化|テフロン|イオン照射
要約(日本語): テフロン(PTFE)表面にECRをイオン源とするイオンガンを用いてH2Oイオンを照射することにより,表面改質を行った。さらに表面改質を行ったPTFE表面にスパッタリング法によりCr薄膜を形成した。これにより表面改質を行わない場合よりも実に6MPa高い剥離強度を持つCr薄膜の形成に成功し,PTFEの表面の不活性な性質を改質できた。本研究の目的は,この技術をさらに発展させていくことにより,PTFEに実用的な強度を備えた厚さの金属膜の形成や,PTFEを基板とした高周波回路の製作など,PTFEの活用領域を広げていくことである。
原稿種別: 日本語
PDFファイルサイズ: 813 Kバイト
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