蛍光X線膜厚計で使用するCr標準薄膜の開発

カテゴリ: 全国大会

論文No: 3-150

グループ名: 【全国大会】平成17年電気学会全国大会論文集

発行日: 2005/03/15

タイトル(英語): Development of Cr thin film standard for a X-ray fluorescence thickness monitor

著者名: 播磨 幸一(早稲田大学),岩崎 登(電測),植田 敏嗣(早稲田大学)

著者名(英語): Koichi Harima(Waseda University),Noboru Iwasaki(Elec Fine Instruments),Toshitsugu Ueda(Waseda University)

キーワード: Cr標準薄膜|蛍光X線式膜厚計|マイクロ加工技術

要約(日本語): 本研究室では、蛍光X線膜厚計で使用するCr蛍光X線の標準となるCr標準薄膜を開発している。しかしCrは、脆性材料のため圧延が難しく、まだ製造は困難である。そこで、α水晶のZ板を用いた高周波スパッタリングによるCr標準薄膜の開発を行い、膜厚を測定して開発した薄膜の評価を行った。この標準薄膜を製作するために、本研究では水晶のマイクロ加工技術を応用して実施した。ここで述べる水晶のマイクロ加工とは、重フッ化アンモニウム飽和水溶液によるウェットエッチングを主体としている。このプロセスの基本は、ウエハの洗浄、金属薄膜の付着、金属薄膜のパターン付け、水晶のエッチングによって成り立っている。

原稿種別: 日本語

PDFファイルサイズ: 755 Kバイト