ゾーンコントロールを用いた高速熱処理用誘導加熱装置の渦電流解析

カテゴリ: 全国大会

論文No: 5-223

グループ名: 【全国大会】平成17年電気学会全国大会論文集

発行日: 2005/03/15

タイトル(英語): Improvement of Zone Control Induction Heating Equipment for High-Speed Processing of Semiconductor

著者名: 齊藤 愛詩弥(岡山大学),宮城 大輔(岡山大学),高橋 則雄(岡山大学),内田 直喜(三井造船),尾崎 一博(三井造船)

著者名(英語): Aisha Saitou(Okayama University),Daisuke Miyagi(Okayama University),Norio Takahashi(Okayama University),Naoki Uchida(Mitsui Engineering & Shipbuilding Co.),Kazuhiro Ozaki(Mitsui Engineering & Shipbuilding Co.)

キーワード: ゾーンコントロール|誘導加熱|有限要素法|渦電流解析

要約(日本語): 誘導加熱を利用した半導体ウェハの加熱装置は，高速昇温が可能であるという特長を有している．この装置ではウェハに対向しているグラファイトを均一に過熱する必要があるが，一組の加熱コイルでは，グラファイト各部の加熱温度制御はできない．それに対し，加熱コイルを分割し，各コイルの電流や周波数を調整（ゾーンコントロール）すれば，均一加熱が可能となる．各コイルの電流を制御するためには，各コイル電流によりグラファイトに生じる渦電流損密度の分布を求めておく必要がある．今回，有限要素法により，各コイルにより生じる渦電流密度の分布を明らかにし，これを用いて電流値や周波数を決めれば，均一に近い加熱を実現できることを確かめたので報告する．

原稿種別: 日本語

PDFファイルサイズ: 855 Kバイト