1
/
の
1
工業用電子レンジを用いた試料配置変化に対する加熱分布に関する検討
工業用電子レンジを用いた試料配置変化に対する加熱分布に関する検討
通常価格
¥440 JPY
通常価格
セール価格
¥440 JPY
単価
/
あたり
税込
カテゴリ: 全国大会
論文No: 1-128
グループ名: 【全国大会】平成18年電気学会全国大会論文集
発行日: 2006/03/15
タイトル(英語): A Study of Temperature Distribution on Change of Sample Position in Industrial Microwave Oven
著者名: 須賀良介 (青山学院大学),橋本 修 (青山学院大学),高富哲也 (大和製罐),伊集院太一 (大和製罐),渡邊慎也 (青山学院大学)
キーワード: 工業用電子レンジ|加熱ムラ|照射距離
要約(日本語): 従来より工業用電子レンジによる加熱において,被加熱物質の加熱ムラが問題となっている.我々は既にこの種の問題に対して,並列FDTD法の有効性を確認している.さらに,本手法により水膜をカップ周囲に配置することにより,試料の加熱ムラを低減することが可能であることを,定量的に確認している.本報告では,この水膜配置時における試料配置位置による加熱分布への影響を検討したので報告する.
原稿種別: 日本語
PDFファイルサイズ: 1,240 Kバイト
受取状況を読み込めませんでした
