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高強度パルス重イオン加速器の開発

高強度パルス重イオン加速器の開発

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カテゴリ: 全国大会

論文No: 1-154

グループ名: 【全国大会】平成18年電気学会全国大会論文集

発行日: 2006/03/15

タイトル(英語): Development of an Intense Pulsed Heavy Ion Beam Accelerator

著者名: 三宅 秀典(富山大学),廣明 拓哉(富山大学),東山 昌義(富山大学),北村 岩雄(富山大学),伊藤 弘昭(富山大学),升方 勝己(富山大学)

著者名(英語): Hidenori Miyake(Univ. of Toyama),Takuya Hiroaki(Univ. of Toyama),Masayosi Higasiyama(Univ. of Toyama),Iwao Kitamura(Univ. of Toyama),Hiroaki Itou(Univ. of Toyama),Katumi Masugata(Univ. of Toyama)

キーワード: パルス重イオンビーム|パルス加速器|ガスパフプラズマガン

要約(日本語): パルス重イオンビーム (PHIB) は、イオン注入と同時に材料表面を高温に加熱することができる。このことから、PHIBはSiC等の高融点材料への新しいイオン注入法として期待されている。しかしながら、PHIBを半導体プロセスに応用するには高純度かつ大電流密度のイオンビームの発生が不可欠である。本研究ではビームの高純度化を目指して、ガスパフプラズマガンをイオン源としたイオンダイオードの開発を行っている。また、従来の電源に比べ、高出力で低コストの短パルス電源として同軸マルクスを開発し動作試験を行ったので報告する。

原稿種別: 日本語

PDFファイルサイズ: 1,187 Kバイト

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