パルス変調によるAr-N2誘導熱プラズマの下流チャンバ熱流入量の低減

カテゴリ: 全国大会

論文No: 1-170

グループ名: 【全国大会】平成18年電気学会全国大会論文集

発行日: 2006/03/15

タイトル(英語): Reduction of Heat Flux into Reaction Chamber at the Downstream of Ar-N₂ Pulse Modulated Induction Thermal Plasmas

著者名: 林 耕平(金沢大学),室屋 貴史(金沢大学),田中 康規(金沢大学),上杉 喜彦(金沢大学)

著者名(英語): Kohei Hayashi(Kanazawa University),Takafumi Muroya(Kanazawa University),Yasunori Tanaka(Kanazawa University),Yoshihiko Uesugi(Kanazawa University)

キーワード: 誘導熱プラズマ|パルス変調|高速窒化|窒素原子|熱流低減

要約(日本語): Tiなどの金属表面に対する低温プラズマ窒化処理は，その表面硬度や耐摩耗性を飛躍的に向上させることからさかんに利用されている。この窒化処理には通常30分?数十時間もの処理時間を要する。このため高温熱プラズマのもつ高い反応性を用いて，高速窒化処理を行うことが試みられている。筆者らはこれまでに「パルス変調誘導熱プラズマ（PMITP）」を開発し，これにより熱プラズマでの高い反応性を維持したまま，熱的ダメージを抑制することを試みている。高気圧熱プラズマでの窒化においては金属表面温度と金属への窒素原子流束が重要であると考えられる。そこで本報では，コイル電流のパルス変調が窒素原子数およびTi表面温度に及ぼす影響について検討した。

原稿種別: 日本語

PDFファイルサイズ: 3,859 Kバイト