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ニケイ化モリブデン薄膜発熱体の作製と評価
ニケイ化モリブデン薄膜発熱体の作製と評価
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カテゴリ: 全国大会
論文No: 2-085
グループ名: 【全国大会】平成18年電気学会全国大会論文集
発行日: 2006/03/15
タイトル(英語): Fabrication and Evaluation of MoSi2 thin film heaters
著者名: 佐藤 雅志(同志社大学),伊東佑規 (同志社大学),吉門進三 (同志社大学)
著者名(英語): Masashi Satoh(Doshisha University),Yuki Itoh(Doshisha University),Shinzo Yoshikado(Doshisha University)
キーワード: ニケイ化モリブデン|薄膜発熱体|高真空対応|RFマグネトロンスパッタリング法|アルミナ|直流通電
要約(日本語): 高融点材料であるMoSi2を、RFマグネトロンスパッタ法によりアルミナるつぼ側面に堆積させ、るつぼ上下に白金電極を取り付けて薄膜発熱体を作製した。この発熱体では電極として用いた白金がMoSi2薄膜と反応し白金シリサイドを生成して発熱体が劣化するという報告がある。そこで白金とMoSi2薄膜が直接触れないようにこれらの間にMoを薄膜化しバッファ層とした発熱体を作製した。このようにして作製した薄膜発熱体で10-6Pa程度の真空雰囲気において、室温から1200℃まで20回以上の発熱に成功した。得られた抵抗?発熱温度特性はほぼ線形で、抵抗温度係数は一定の値となった。繰り返しても劣化の起こりにくい発熱体を作製できた。
原稿種別: 日本語
PDFファイルサイズ: 953 Kバイト
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