光触媒活性を有するTiO2薄膜の電気抵抗率に及ぼす温度の影響

カテゴリ: 全国大会

論文No: 2-093

グループ名: 【全国大会】平成18年電気学会全国大会論文集

発行日: 2006/03/15

タイトル(英語): Influence of the Temperature on Resistivity ρ for TiO₂ Thin Films Having Photocatalytic Activity

著者名: 早川孝宏 (日本大学),新妻清純 (日本大学),移川欣男 (日本大学)

キーワード: 酸化チタン|電気抵抗率|温度|紫外線|光触媒活性|結晶構造

要約(日本語): 本研究では, Ar+40%O2雰囲気中において,1~3Paのガス圧で成膜したTiO2薄膜について,結晶構造,吸収スペクトルならびに紫外線照射時の光触媒活性および電気抵抗率と成膜条件との相関と,電気抵抗率に及ぼす温度の影響について検討を行った。XRDの結果, TiO2薄膜はアナターゼ型の結晶構造を有し,3Paの成膜ガス圧で作製したTiO2薄膜に120分間の紫外線照射した時,メチレンブルー色素の吸光度は最小となり,電気抵抗率は照射前の値と比較して約5桁減少した。このρの減少にはUV照射時間による温度上昇の影響が考えられる。さらに,温度の増加に伴い,電気抵抗率は減少する傾向を示した。

原稿種別: 日本語

PDFファイルサイズ: 2,831 Kバイト