PLD法による積層型ZnO薄膜バリスタの製作と評価

カテゴリ: 全国大会

論文No: 2-112

グループ名: 【全国大会】平成18年電気学会全国大会論文集

発行日: 2006/03/15

タイトル(英語): Evaluation and preparation of laminated thin film ZnO varistor by the PLD method.

著者名: 澤 佐幸(同志社大学),吉門進三 (同志社大学)

著者名(英語): Sayuki Sawa(Doshisha University),Shinzo Yoshikado(Doshisha University)

キーワード: レーザアブレーション法|薄膜|バリスタ|酸化亜鉛|V-I特性

要約(日本語): 近年，電子機器のネットワーク化が進み，サージの進入口となっているため電子回路をサージから保護する必要性が増大している．そこで低電圧化や小型化，実装密度の向上などへの対応性に優れた薄膜バリスタが検討されるに至っている．そこでZnOにCoを添加することでドナーを形成した薄膜とBi2O3などの不純物の薄膜をパルスレーザアブレーション法によりアルミナ基板上に交互に堆積させ，粒界の厚みや数を変化させることでバリスタの動作電圧を自由に設定できる積層型ZnO薄膜バリスタを作製した。作製した薄膜の特性をSEMとEDXによる表面観察および組成分析，X線回折測定などを行い評価した．また作製した薄膜に電極を作製し，V−I特性を測定し評価を行った．

原稿種別: 日本語

PDFファイルサイズ: 783 Kバイト