パルス電析法によるCo-Pt 薄膜磁石の厚膜化

カテゴリ: 全国大会

論文No: 2-126

グループ名: 【全国大会】平成18年電気学会全国大会論文集

発行日: 2006/03/15

タイトル(英語): Fabrication of the Co-Pt thin film magnet by pulse electrodeposition

著者名: 藤田 直幸(奈良工業高等専門学校),甘崎晋次郎 (奈良工業高等専門学校),弓場央嗣 (奈良工業高等専門学校),笹平 昌男(日本エレクトロプレイティング,エンジニヤース),和知 弘(日本エレクトロプレイティング,エンジニヤース),中野 正基(長崎大学),福永 博俊(長崎大学)

著者名(英語): Naoyuki Fujita(Nara National College of Tech.),Shinjiro Amasaki(Nara National College of Tech.),Hirotugu Yumiba(Nara National College of Tech.),Masao Sasadaira(Electroplating Engineers of Japan Ltd.),Hiroshi Wachi(Electroplating Engineers of Japan Ltd.),Masaki Nakano(Nagasai Univ.),Hirotoshi Fukunaga(Nagasai Univ.)

キーワード: Co-Pt|薄膜磁石|パルス電析|電着応力

要約(日本語): 電析法により100μm以上の膜厚を有するCo?Pt薄膜磁石を作製するために，パルス電析法が内部応力に及ぼす影響を調べた．電流波高値を50mA/cm²，パルスON時間を2msec一定とし，パルスOFF時間を0?58msecと変化させたところ，OFF時間の増加とともに基板近傍の金属イオンの欠乏が補われ，電流効率が向上した．その結果，水素発生量が低下し，内部応力を大幅に減少させることができた．

原稿種別: 日本語

PDFファイルサイズ: 1,034 Kバイト