Sol-Gel法により作製した高保磁力Coフェライト薄膜

カテゴリ: 全国大会

論文No: 2-127

グループ名: 【全国大会】平成18年電気学会全国大会論文集

発行日: 2006/03/15

タイトル(英語): High Coercivity of Co-ferrite Thin Films Prepared by Sol-Gel Method

著者名: 大橋 斉(岐阜大学),岡崎 靖雄(岐阜大学),大矢 豊(岐阜大学),柳瀬 俊次(岐阜大学),枦 修一郎(岐阜大学)

著者名(英語): Hitoshi Ohashi(Gifu University),Yasuo Okazaki(Gifu University),Yutaka Oya(Gifu University),Shunji Yanase(Gifu University),shuichiro Hashi(Gifu University)

キーワード: Coフェライト|ゾルゲル法|保磁力

要約(日本語): これまでの研究ではゾルゲル法で作製したCoフェライト薄膜の保磁力は2kOe以下であった。本研究ではゾルゲル法を用いてCoフェライト薄膜を作製し従来より高い保磁力を得られた。また結晶構造が焼成温度に依存して変化し、結晶構造の変化により薄膜に磁気異方性が得られたことを報告する。

原稿種別: 日本語

PDFファイルサイズ: 681 Kバイト