液相堆積法によるMIMキャパシタの低温作製と電気特性評価

カテゴリ: 全国大会

論文No: 3-004

グループ名: 【全国大会】平成18年電気学会全国大会論文集

発行日: 2006/03/15

タイトル(英語): Characteristics of MIM capacitor fabricated using Liquid-Phase-Deposition method at room temperature

著者名: 斉藤隆政 (横浜国立大学),田代 勝良(横浜国立大学),稲垣 泉貴(横浜国立大学),羽路 伸夫(横浜国立大学)

著者名(英語): Takamasa Saito(Yokohama National University),Katsuyoshi Tashiro(Yokohama National University),Motoki Inagaki(Yokohama National University),Nobuo Haneji(Yokohama National University)

キーワード: 液相堆積法|低温|電気特性

要約(日本語): 電子デバイスの高集積化により、半導体素子だけではなく高密度実装技術が重要となり、キャパシタをプリント基板に埋め込んだビルドアップ基板が求められている。ビルドアップ基板に求められる条件として低温、低コスト、IC直下に埋め込むことによる寄生L,Cの低減などがあるが、そこで薄膜生成法として低コスト・低温プロセスを満たす液相堆積(Liquid-Phase-Deposition)法、(以下：LPD法)を本研究で用いた。本研究はLPD法を用いて、MIM（Metal-Insulator-Metal）キャパシタを作製し、その評価を行ったものである。

原稿種別: 日本語

PDFファイルサイズ: 668 Kバイト