パルスレーザ蒸着法による(Bi,La)TiO薄膜の作製と評価

カテゴリ: 全国大会

論文No: 3-005

グループ名: 【全国大会】平成18年電気学会全国大会論文集

発行日: 2006/03/15

タイトル(英語): Characteristics of (Bi,La)TiO ferroelectric thin films prepared by pulsed laser deposition method

著者名: 横幕 孝丸(横浜国立大学),下重 誠治(横浜国立大学),割田 直人(横浜国立大学),羽路 伸夫(横浜国立大学)

著者名(英語): Takamaru Yokomaku(Yokohama National University),seiji shimojyu(Yokohama National University),naoto warita(Yokohama National University),nobuo haneji(Yokohama National University)

キーワード: パルスレーザ蒸着|強誘電体|ポストアニール|二段階成膜|(Bi|La)TiO|ぺロブスカイト構造

要約(日本語): 本研究ではビスマス層状ペロブスカイト構造をとる(Bi3.25,La0.75)Ti3O12（以下BLT）をパルスレーザ蒸着法によりPt電極上に酸素圧力50mTorrで成膜し、上部にはPtをEB蒸着することによりMIMキャパシタを作製した。試料作製後、BLT薄膜の結晶化を促進し、またEB蒸着によるダメージを回復するために、酸素雰囲気中でポストアニールを700℃で行った。作製した試料について評価した結果を報告する。

原稿種別: 日本語

PDFファイルサイズ: 690 Kバイト