ポリスチレン粒子鋳型を用いて作製した濃縮・分離用シリカナノ構造体

カテゴリ: 全国大会

論文No: 3-127

グループ名: 【全国大会】平成18年電気学会全国大会論文集

発行日: 2006/03/15

タイトル(英語): Silica Nanostructures for Enrichment or Separation Prepared using Colloidal Polystyrene Sphere Templates

著者名: 平田 研二(奈良先端科学技術大学院大学),堀池 重吉(島津製作所),西本 尚弘(島津製作所),中西 博昭(島津製作所),吉田 多見男(島津製作所),北川 文彦(京都大学),大塚 浩二(京都大学)

著者名(英語): Kenji Hirata(Nara Institute of Science and Technology),Shigeyoshi Horiike(Shimadzu Corporation),Takahiro Nishimoto(Shimadzu Corporation),Hiroaki Nakanishi(Shimadzu Corporation),Tamio Yoshida(Shimadzu Corporation),Fumihiko Kitagawa(Kyoto University),Kouji Otsuka(Kyoto University)

キーワード: シリカモノリス|ゾル?ゲル法|濃縮|分離

要約(日本語): 高性能な濃縮・分離用媒体としてモノリスカラムが注目されている。モノリスカラムはシリカ骨格と細孔からなる網目状構造を持つ。従来のモノリスカラム作製方法では細孔寸法が不均一になることが問題視されている。そこで我々は均一な細孔を実現するために、単分散ポリスチレンコロイド粒子を鋳型として、ゾル?ゲル法により濃縮・分離用シリカナノ構造体を作製した。本報告ではシリカナノ構造体の形状および圧力?流量特性について報告する。

原稿種別: 日本語

PDFファイルサイズ: 926 Kバイト