回折格子用X線マスクの作製

カテゴリ: 全国大会

論文No: 3-131

グループ名: 【全国大会】平成18年電気学会全国大会論文集

発行日: 2006/03/15

タイトル(英語): Fabrication of X-ray Mask for Diffraction Gratings

著者名: 嶋田 和真(姫路工業大学),田中 誠人(兵庫県立大学),野田 大二(兵庫県立大学),服部 正(兵庫県立大学)

著者名(英語): Kazuma Shimada(Himeji Institute of Technology),Makoto Tanaka(University of Hyogo),Daiji Noda(University of Hyogo),Tadashi Hattori(University of Hyogo)

キーワード: X線マスク|回折格子

要約(日本語): 従来のX線マスク作製方法ではUVリソグラフィを用いられることがほとんどであった。しかしこの方法ではフォトレジストの膜厚が数μmレベルでの微細加工ができないとされている。またさらに高アスペクト比の回折格子が求められている。そのためにX線マスクではさらに吸収体膜厚の厚く高アスペクト比のX線マスクが必要とされている。一方でSiの高アスペクト比加工技術として，(1)ASE(Advanced Silicon Etching)プロセスと呼ばれる，エッチングステップと保護膜を側壁に堆積させるステップを交互に繰り返すICP(Inductively Coupled Plasma)技術を用いることでナノオーダーの矩形構造が作製可能となっている。本研究ではUVリソグラフィに加え微細加工が可能なICPによるドライエッチングを用いることで、さらに微細でかつ高精度なX線マスクを作製した。

原稿種別: 日本語

PDFファイルサイズ: 805 Kバイト