k吸収端がX線画像に与える影響の検討

カテゴリ: 全国大会

論文No: 3-132

グループ名: 【全国大会】平成18年電気学会全国大会論文集

発行日: 2006/03/15

タイトル(英語): Study of K absorption end having an affect on the X-ray image

著者名: 安井 学(神奈川県産業技術総合研究所),増田 信次(神奈川県産業技術総合研究所),平林 康男(神奈川県産業技術総合研究所)

著者名(英語): Manabu Yasui(Kanagawa Industrial Techonology Research Institute),Nobutsugu Masuda(Kanagawa Industrial Techonology Research Institute),Yasuo Hirabayashi(Kanagawa Industrial Techonology Research Institute)

キーワード: グリッドマスク|マイクロフォーカスX線検査装置|LIGAライクプロセス

要約(日本語): 非破壊検査に使われているマイクロフォーカスX線検査装置の問題点は，?X線画像周辺部の歪み，?高電圧撮影によるX線吸収率の低下の2点である。そのため，我々は高電圧撮影でも一定のX線吸収率を維持できる歪み補正用スケールとして図1に示すNiグリッドマスク1)を改良したAuグリッドマスクを試作した。グリッドの間隔は設計した500μm，標準偏差は測定精度である1μmであった。また，AuグリッドマスクをX線撮影した結果，高電圧でもコントラスト比の減少が小さいことが分かった2)。本報告では，X線からX線画像に変換された時のコントラスト比の測定値と計算値を比較することで，高電圧下でAuのコントラスト比の減少幅が小さい原因を検討，Auのk吸収端により100?150kVのX線撮影でAuグリッドマスクのコントラスト比の減少が小さくなると考えられる。

原稿種別: 日本語

PDFファイルサイズ: 827 Kバイト