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X線タルボ干渉計用回折格子の作製と評価

X線タルボ干渉計用回折格子の作製と評価

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カテゴリ: 全国大会

論文No: 3-134

グループ名: 【全国大会】平成18年電気学会全国大会論文集

発行日: 2006/03/15

タイトル(英語): Fabrication of Diffraction Gratings for an X-ray Talbot Interferometer

著者名: 田中 誠人(兵庫県立大学),松本 昌岳(ナガセケムテックス),野田 大二(兵庫県立大学),奥田 孝一(兵庫県立大学),百生 敦(東京大学),服部 正(兵庫県立大学)

著者名(英語): Tanaka Makoto(University of Hyogo),Matsumoto Masatake(Nagase ChemteX CO.,LTD ),Noda Daiji(University of Hyogo ),Okuda Koichi(University of Hyogo ),Momose Atsushi(The University of Tokyo),Hattori Tadashi(University of Hyogo )

キーワード: X線タルボ干渉計|X線リソグラフィ|電解めっき

要約(日本語): X線による画像計測は現在でも医療診断、非破壊検査などで欠かすことの出来ない技術であるが、軟組織に対する感度不足がその用途を制限している。それらを解決するためX線の位相情報を利用したイメージングが研究されており、我々もイメージングの方法としてX線タルボ干渉計を提案している。X線タルボ干渉計の特徴は高輝度X線を必ずしも必要としないこと、また回折格子を用いた単純な構成であることが大きく上げられる。しかし干渉計を構成する回折格子にはピッチ数μm以下、厚み20μm以上が要求される。これらの要求を満たすためにX線リソグラフィ技術などを用いてピッチ5.3μm、厚み30μmの回折格子の試作を行った。

原稿種別: 日本語

PDFファイルサイズ: 1,083 Kバイト

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