蛍光X線膜厚計で使用する標準薄膜の開発と定量分析法による評価

カテゴリ: 全国大会

論文No: 3-183

グループ名: 【全国大会】平成18年電気学会全国大会論文集

発行日: 2006/03/15

タイトル(英語): Development of thin film standard for a X-ray fluorescence thickness monitor and it’s evaluation by Quantitative Analysis Method

著者名: 播磨 幸一(早稲田大学),岩崎 登(電測),植田 敏嗣(早稲田大学)

著者名(英語): Koichi Harima(Graduate School of Information,Production and Systems,Waseda University),Noboru Iwasaki(Elec Fine Instruments Co.,Ltd.),Toshitsugu Ueda(Graduate School of Information,Production and Systems,Waseda University)

キーワード: 蛍光X線|FP法|マイクロ加工技術|検量線法

要約(日本語): 本研究の目的は、蛍光X線膜厚計の標準器として開発した標準薄膜の評価を行うことである。工業製品における金属薄膜の測定は、頻繁に行われる評価試験の1つである。評価試験を行う理由として、金属薄膜の膜厚が所定の値と異なると、外観、耐食性、電気伝導性、製品コストに影響を及ぼすことが挙げられる。開発した標準薄膜もそれと同様に、膜厚値が所定の値と異なると、蛍光X線膜厚計の校正用標準器としての意味を成さなくなる。そこで、標準薄膜を評価するために、触針式表面粗さ計により標準薄膜の膜厚を測定した結果と、蛍光X線膜厚計により測定した結果の比較を行った。

原稿種別: 日本語

PDFファイルサイズ: 796 Kバイト