希ガス高周波絶縁破壊における電子発生機構

カテゴリ: 全国大会

論文No: 1-033

グループ名: 【全国大会】平成19年電気学会全国大会論文集

発行日: 2007/03/15

タイトル(英語): Electron Production Processes in RF Breakdown of Rare Gases

著者名: 佐々木 典彦(宮城工業高等専門学校),内田 裕(東芝)

著者名(英語): Norihiko Sasaki|Yutaka Uchida

キーワード: 高周波放電|絶縁破壊|希ガス|電子発生機構

要約(日本語): 希ガス(Ne)の高周波（13.56MHz）による静的絶縁破壊特性（破壊電圧の圧力依存性）に関する報告である。放電装置は、平行平板容量結合型を用いている。ArやKrなどの重い希ガスに見られるV字型の破壊電圧特性とは異なり、HeやNeなどの軽い希ガスでは、破壊特性の右枝の広い圧力範囲で、破壊電圧が圧力とともに上昇しない平坦な特性をとる。今回のテーマの中心は、1．我々の測定圧力領域の拡大、及び他の研究者のデータを加え、これまで以上の広い圧力領域にわたるNeの右枝の破壊特性を明らかにすること、2．右枝の特性を特徴づける電子発生機構が圧力とともにどのように変化するのかを調べること、の2点である。

原稿種別: 日本語

PDFファイルサイズ: 699 Kバイト