高周波CF4プラズマシミュレーションにおける電子-イオン衝突のモデリング

カテゴリ: 全国大会

論文No: 1-078

グループ名: 【全国大会】平成19年電気学会全国大会論文集

発行日: 2007/03/15

タイトル(英語): Modeling of Electron-Ion Collisions in Simulation of Radio-Frequency CF₄ Plasmas

著者名: 森 直樹(北海道大学),菅原 広剛(北海道大学),荒木田大嗣 (北海道大学),須田 善行(北海道大学),酒井 洋輔(北海道大学)

著者名(英語): Naoki Mori(Hokkaido University),Hirotake Sugawara(Hokkaido University),Daishi Arakita(Hokkaido University),Yoshiyuki Suda(Hokkaido University),Yosuke Sakai(Hokkaido University)

キーワード: プラズマ|イオン|再結合|モンテカルロ|四フッ化炭素|モデリング

要約(日本語): CF4プラズマ中の電子?CF3+再結合はCF4プラズマの構造を決定付けるが、その生起確率はCF3+が少ない場合電子?中性分子衝突確率に比べかなり小さい。従来のモンテカルロ法では電子毎に一衝突過程を選ぶため、生起確率の低い電子?イオン反応は数が限られた追跡電子に対しては希にしか起きず生起位置分布が大きくばらつく。本解析では追跡電子の重みの操作によるばらつき低減を試みた。低生起確率の衝突過程については追跡電子の重みの相当部分が必ず当該過程を経験するとし、再結合の場合確率に応じて追跡電子の重みを減らした。即ちこの過程は決定論的に扱われる。過去に流体モデル解析で得られた再結合の空間分布の概形が再現された。

原稿種別: 日本語

PDFファイルサイズ: 713 Kバイト