任意変調アルゴン誘導熱プラズマにおける Ar 励起温度の動的変化

カテゴリ: 全国大会

論文No: 1-204

グループ名: 【全国大会】平成19年電気学会全国大会論文集

発行日: 2007/03/15

タイトル(英語): Dynamic change of Ar Excitation Temperature in Ar Arbitrary-Waveform Modulated Induction Thermal Plasma

著者名: 森下 悠 (金沢大学),奥永京太 (金沢大学),田中康規 (金沢大学),上杉喜彦 (金沢大学)

キーワード: 誘導熱プラズマ|AMITP|Ar スペクトル|放射強度|Ar 励起温度

要約(日本語): 誘導熱プラズマは，ガス温度が高く反応性が高いことから，材料生成分野においてさかんに応用されている。筆者らはこれまで，誘導熱プラズマを発生させるコイル電流を矩形波的に振幅変調させ，生成される熱プラズマの温度，化学活性種などを時間的に制御できることを見出してきた。このようなプラズマを用いれば，通常の定常・平衡運転条件下では生成されない新物質創製が期待できる。本研究では，コイル電流を矩形波変調するだけでなく，任意波形に追随するように振幅変調させ，熱プラズマ温度のより詳細な制御を試みている。この誘導熱プラズマをここでは「任意変調誘導熱プラズマ ( AMITP ; Arbitrary -Waveform Modulated Induction Thermal Plasma ) 」と呼ぶ。本報では，Ar AMITP の内部状態を把握するために2本の Ar スペクトル放射強度より二線強度比法を用いて Ar 励起温度の時間変化を評価した。

原稿種別: 日本語

PDFファイルサイズ: 2,305 Kバイト