プラズマフォーカスを用いた薄膜生成

カテゴリ: 全国大会

論文No: 1-224

グループ名: 【全国大会】平成19年電気学会全国大会論文集

発行日: 2007/03/15

タイトル(英語): Thin film generation using plasma focus device

著者名: 中田 洋平(富山大学),水野 俊哉(富山大学),Hamid Reza Yosefi (富山大学),北村 岩雄(富山大学),伊藤 弘昭(富山大学),升方 勝己(富山大学)

著者名(英語): Youhei Nakada(University Of Toyama),Toshiya Mizuno(University Of Toyama),Hamid Reza Yousefi (University Of Toyama),Iwao Kitamura(University Of Toyama),Hiroaki Ito(University Of Toyama),katsumi Masugata(University Of Toyama)

キーワード: プラズマフォーカス|薄膜生成|カーボン

要約(日本語): プラズマフォーカス発生装置は，コンデンサーバンクと電極で構成される単純な装置を用いており，高温，高密度のピンチプラズマを生成することができる。またピンチした領域では高エネルギーの電子ビームやイオンビームの発生が明らかとされており，荷電粒子源としての応用が期待されている．本研究では，封入ガスとして水素を用いて，アノードの先端にカーボンを埋め込み，ピンチプラズマによって発生した電子ビームがカーボンに衝突することで，アブレーションプラズマを発生させ，そのプラズマを基板に堆積させることで薄膜を生成するという手法による材料開発研究を行った．

原稿種別: 日本語

PDFファイルサイズ: 883 Kバイト