Polbüschel沿面放電下における微小空隙内の残留電荷分布

カテゴリ: 全国大会

論文No: 2-075

グループ名: 【全国大会】平成19年電気学会全国大会論文集

発行日: 2007/03/15

タイトル(英語): Residual Charge Distribution in a Micro Gap under Surface Discharge of Polbüschel Type

著者名: 木下 幸弘(名古屋工学院専門学校),今井 國治(名古屋大学),木全 浩市(タツタ電線)

著者名(英語): Yukihiro Kinoshita(Nagoya Kougakuin College of Technology),Kuniharu Imai(Nagoya University),Kouichi Kimata(Tatsuta Cable & Wire Co. Ltd.)

キーワード: 沿面放電|模擬ボイドモデル|残留電荷|酸化劣化|電界強調

要約(日本語): 本研究では、模擬ボイドモデルを作成し、微小空隙内で、摩耗的なPD劣化破壊が支配的となり沿面放電形態がPolbüschelとなるPDを発生させ、微小空隙底面を想定したフィルム上の残留電荷分布を測定した。その結果、電圧印加直後は正の電荷または、負の電荷が主に蓄積する二通りの残留電荷パターンとなった。その後、電極直下に負極性電荷が蓄積し、その周りに正極性電荷が蓄積するカルデラ状になっていくことが確認でき、最終的に負極性電荷が蓄積する部分で絶縁破壊した。筆者らは以前、フィルムが酸化劣化に基づき破壊すると報告しており、この酸化劣化に、残留電荷による空間電荷効果が重畳し絶縁破壊に至ることが明らかとなった。

原稿種別: 日本語

PDFファイルサイズ: 1,310 Kバイト