フェライトめっき膜を用いた結合伝送線路の電磁界解析

カテゴリ: 全国大会

論文No: 2-142

グループ名: 【全国大会】平成19年電気学会全国大会論文集

発行日: 2007/03/15

タイトル(英語): Electromagnetic Field Analysis of Coupled Transmission Line using Plated Ferrite Thin Film

著者名: 大村 智昭(信州大学),直江 正幸(信州大学),佐藤敏郎 (信州大学),山沢清人 (信州大学),三浦 義正(信州大学),近藤幸一 (NECトーキン),藤原 照彦(NECトーキン),吉田 栄吉(NECトーキン)

著者名(英語): Tomoaki Omura(Shinshu University),Masayuki Naoe(Shinshu University),Toshiro Sato(Shinshu University),Kiyohito Yamasawa(Shinshu University),Yoshimasa Miura(Shinshu University),Koichi Kondo(NEC TOKIN Corporation),Teruhiko Fujiwara(NEC TOKIN Corporation),Shigeyoshi Yoshida(NEC TOKIN Corporation)

キーワード: フェライトめっき|結合伝送線路|電磁界解析

要約(日本語): フェライトめっき膜はバルクフェライトのスヌークの限界を超える複素透磁率を有し，これまでにノイズ吸収シートとしての実用化が報告されている．しかし，調べた限りでは，電子部品としての応用例はまだ報告されていない．本研究は，このフェライトめっき膜の応用を，機能性受動部品への適用に発展させることを目的としている．今回は，その基礎検討としてフェライトめっき膜を用いた結合伝送線路モデルを，三次元電磁界シミュレータを用いて解析した結果について述べる．

原稿種別: 日本語

PDFファイルサイズ: 1,546 Kバイト