Poly-Si微細構造体による回折格子用X線マスクの作製

カテゴリ: 全国大会

論文No: 3-118

グループ名: 【全国大会】平成19年電気学会全国大会論文集

発行日: 2007/03/15

タイトル(英語): Fabrication of X-ray Mask using microstructure of Poly-Si for Diffraction Grating

著者名: 嶋田 和真(兵庫県立大学),田中 誠人(兵庫県立大学),野田 大二(兵庫県立大学),服部 正(兵庫県立大学)

著者名(英語): Kazuma Shimada(University of Hyogo),Makoto Tanaka(University of Hyogo),Daiji Noda(University of Hyogo),Tadashi Hattori(University of Hyogo)

キーワード: X線マスク|回折格子

要約(日本語): 従来の作製方法ではX線マスク作製にUVリソグラフィでは狭ピッチにおいて矩形構造体作製が困難である。またSiの高アスペクト比加工技術として、ASE(Advanced Silicon Etching)プロセスと呼ばれる、エッチングステップと保護膜堆積ステップを交互に繰り返す手法を用いるICP(Inductively Coupled Plasma)技術を用いることでナノオーダーの加工が可能である。本研究では要求されるピッチと厚さを満たした回折格子をX線リソグラフィで作製するためのX線マスクを従来のUVリソグラフィ技術に微細加工が可能なICPによるSiドライエッチングのプロセスを加えることにより、アスペクト比の大きな矩形構造体を作製し、微細でかつ高精度なX線マスクを作製することを目的とする。

原稿種別: 日本語

PDFファイルサイズ: 2,048 Kバイト