X線を用いた回折露光によるテーパー溝形状の作製

カテゴリ: 全国大会

論文No: 3-120

グループ名: 【全国大会】平成19年電気学会全国大会論文集

発行日: 2007/03/15

タイトル(英語): Fabrication of the tapered resist microstructure by diffraction exposure using X-ray

著者名: 田靡 京(姫路工業大学),船曳陽一 (ナノクリエート),野田 大二(兵庫県立大学),服部 正(兵庫県立大学)

著者名(英語): Kyo Tanabiki(Himeji Institute of Technology),Yoichi Funabiki(Nanocreate Co.,Ltd.,),Daiji Noda(University of Hyogo),Tadashi Hattori(University of Hyogo)

キーワード: 微細構造体|LIGA|放射光|微細加工|回折

要約(日本語): 高アスペクト比構造体の成形品は金型から抜くことが難しいとされている。そこで、構造体にテーパーをつけることにより離形性をよくすることができる。本研究では、マスクとレジスト間にギャップをあけることによってX線の回折を起こし、テーパー形状を作製する方法を提案する。加工深さ200μm、テーパー角5°を目標値とし、ギャップ、DOSE量、スリット幅を変えて実験を行った。150mm、DOSE量15000(mA*sec/mm)、スリット幅7μmの条件で3.67°のテーパー角をつけることが出来た。今後、目標であるテーパー角5°となる条件を見出すとともに、テーパー形状と離形性の関係を調べていく予定である。

原稿種別: 日本語

PDFファイルサイズ: 1,533 Kバイト