移動マスクUV露光法による埋め込み型流路の作製

カテゴリ: 全国大会

論文No: 3-121

グループ名: 【全国大会】平成19年電気学会全国大会論文集

発行日: 2007/03/15

タイトル(英語): Fabrication of Embedded Microchannels by Moving-mask UV Lithography

著者名: 稲本好輝 (京都大学),平井義和 (京都大学),菅野公二 (京都大学),土屋智由 (京都大学),田畑 修 (京都大学)

キーワード: リソグラフィ|三次元加工|SU-8|マイクロ流体デバイス

要約(日本語): 本論文では，移動マスクUV露光法をネガレジスト（SU-8）に適用する埋め込み型流路の作製手法を新規に提案し，その流路断面形状の制御可能性について報告する．移動マスクUV露光法とは，露光中にフォトマスクを基板に対して平行に周期移動させることで，レジスト表面の露光量分布を制御して厚膜レジストを三次元微細加工する技術である．流路長さ1 cm，流路幅100 μmの埋め込み型流路の作製実験から，マスク移動パターンにより流路側壁の傾斜角の制御が可能であること，およびライン＆スペースマスクのピッチ幅とマスク移動振幅の関係から流路上壁の形状も制御が可能であることを確認した．さらにレジスト表面の露光量とレジスト硬化厚さの関係を求めることで，流路断面形状の予測が可能になった．

原稿種別: 日本語

PDFファイルサイズ: 1,534 Kバイト