ドライエッチングにおける選択比の動的制御とその応用

カテゴリ: 全国大会

論文No: 3-130

グループ名: 【全国大会】平成19年電気学会全国大会論文集

発行日: 2007/03/15

タイトル(英語): dynamic control of etching selectivity during dry etching and the applications

著者名: 加藤 寛(東北大学),鍋澤浩文 (富山県工業技術センター),西澤 松彦(東北大学),安部 隆(東北大学)

著者名(英語): Hiroshi Kato(Tohoku University),Hirohumi Nabesawa(Toyama Industrial Technology Center),Matsuhiko Nishizawa(Tohoku University),Takashi Abe(Tohoku University)

キーワード: 水晶|反応性イオンエッチング|選択比|立体形状

要約(日本語): 我々の研究室では、ホトレジストの厚み分布を反応性イオンエッチング法で被加工材に転写する技術を用いて、圧電振動子の開発を行ってきたが、ホトレジストの厚さ分布を転写するだけでは加工自由度に制限がある。そこで、我々は、選択比を動的制御するために、エッチングガスの比率を変化させることで、エッチング選択比を制御できるか検討した。エッチングガスとしてSF6、C4F8を用い、ガス比を1:4、1:1、4:1と変化させることで選択比を調整できることを見いだすとともに、プロセス中に変更することで形状を調整できることに成功した。

原稿種別: 日本語

PDFファイルサイズ: 718 Kバイト