レーザトリガ型EUV放電光源の開発

カテゴリ: 全国大会

論文No: 1-045

グループ名: 【全国大会】平成20年電気学会全国大会論文集

発行日: 2008/03/19

タイトル(英語): Development of Laser-triggered Light Source for EUV Lithography

著者名: 渡辺正人 (東京工業大学),岸 望 (東京工業大学),山田淳三郎 (東京工業大学),堀田栄喜 (東京工業大学)

キーワード: EUV|放電光源|レーザトリガ|リソグラフィ

要約(日本語): 次世代光リソグラフィ用光源への適用を目指したEUV光源の開発について，近年，高い変換効率が得られるという利点から，錫を放電媒質として用いた光源開発が進められている。しかしながら，これまで放電媒質として用いてきたXeが気体であるのに対し錫は固体もしくは液状であるため，従来のZピンチ型放電光源の技術をそのまま適用することができず，あらたな技術開発が求められている。本報では，錫を用いた放電光源開発の第一歩として，放電をパルスレーザ照射により発生させる，いわゆるレーザトリガ型放電光源を開発したので報告する。

原稿種別: 日本語

PDFファイルサイズ: 1,503 Kバイト