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低エネルギーイオン照射によるPTFEの接着力向上とその課題

低エネルギーイオン照射によるPTFEの接着力向上とその課題

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カテゴリ: 全国大会

論文No: 1-052

グループ名: 【全国大会】平成20年電気学会全国大会論文集

発行日: 2008/03/19

タイトル(英語): Adhesive strength improvement of the PTFE by low energy ion irradiation and problem

著者名: 渡 邦男(武蔵工業大学),橋本 慶彦(武蔵工業大学),岩尾 徹(武蔵工業大学),湯本 雅恵(武蔵工業大学)

著者名(英語): Kunio Watari(Musashi Institute of Technology),Yoshihiko Hashimoto(Musashi Institute of Technology),Toru Iwao(Musashi Institute of Technology),Motoshige Yumoto(Musashi Institute of Technology)

キーワード: イオン照射|高分子材料|接着

要約(日本語): 著者らは,数100 eVの低エネルギーでの窒素イオン照射を行うことにより,PTFE(poly-tetra-fluoro-ethylene)の表面改質を行っている.その結果,試料表面の極性力成分による表面エネルギーは10倍程度上昇するが,蒸着した銅との接着力の向上は数倍程度のごくわずかなものであった。これは,PTFEが崩壊型高分子であるので,イオン照射により表面が脆くなってしまったことが原因と考える。本報告では,これを確かめるために剥離試験後の試料表面をXPS(X-ray Photoelectron Spectroscopy)によって観測し,PTFEの剥離強度向上での問題点となる表面損耗についてまとめる。

原稿種別: 日本語

PDFファイルサイズ: 619 Kバイト

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