真空アークアルミニウムイオン源を用いた高強度パルスイオンビーム発生

カテゴリ: 全国大会

論文No: 1-163

グループ名: 【全国大会】平成20年電気学会全国大会論文集

発行日: 2008/03/19

タイトル(英語): High intensitypulsed ion beam generating which used the vacuum arc aluminum ion source

著者名: 藤川 幸大(富山大学),三宅 秀典(富山大学),北村 岩雄(富山大学),伊藤 弘昭(富山大学),升方 勝己(富山大学)

著者名(英語): Kodai Fujikawa(University of Toyama),Hidenori Miyake(University of Toyama),Iwao Kitamura(University of Toyama),Hiroaki Ito(University of Toyama),Katumi Masugata(University of Toyama)

キーワード: アルミニウムイオン源

要約(日本語): 高強度パルスイオンビーム（PHIB）は、イオン注入と同時に表面加熱効果が期待されることからSiC等の高融点材料への新しいイオン注入法として期待されている。半導体のドーパント元素の多くが固体であることから、固体をイオン源とするPHIBの発生技術の開発が必要である。そこでパルスイオン注入を可能とするアルミニウムイオンビームの発生を目的として研究を行っている。本研究では、イオン源としてアルミニウムで製作した真空アーク放電を利用した同軸型プラズマガンを用いている。この先端部分で生成されたプラズマが磁気絶縁型加速ギャップに注入され、イオンが加速される。これにより発生したイオンビームの特性を評価した。

原稿種別: 日本語

PDFファイルサイズ: 611 Kバイト