プラズマフォーカスを用いた薄膜生成

カテゴリ: 全国大会

論文No: 1-165

グループ名: 【全国大会】平成20年電気学会全国大会論文集

発行日: 2008/03/19

タイトル(英語): Deposition of thin film using a plasma focus device

著者名: 中田 洋平(富山大学),西野 勇紀(富山大学),王 植平(富山大学),Hamid Reza Yousefi (富山大学),伊藤 弘昭(富山大学),升方 勝己(富山大学)

著者名(英語): Youhei Nakada(University of Toyama),Yuuki Nishino(University of Toyama),Syokuhei Ou(University of Toyama),Hamid reza Yousefi (University of Toyama),Hiroaki Itou(University of Toyama),Katsumi Masugata(University of Toyama)

キーワード: プラズマフォーカス|アモルファスカーボン|薄膜

要約(日本語): プラズマフォーカス ( PF ) 発生装置は，高温，高密度のピンチプラズマを生成することができ，そのピンチした領域からは大電流密度 ( ~kA/cm2 ) ，短パルス ( ~100ns ) の高エネルギーパルスイオンビームや，電子ビーム，X線等が発生し，これらを利用した研究が精力的に進められている．我々はその中でも，特にパルスイオンビームを用いた薄膜生成技術の確立を目標とし研究を行い，今回カーボン薄膜生成に成功した．その薄膜についてラマン分光器等により評価し，DLC に観測されるDピークとGピークが確認されたためこれを報告する．

原稿種別: 日本語

PDFファイルサイズ: 842 Kバイト