開放端磁場における二次元ヘリウムアークジェットプラズマ流に関する研究

カテゴリ: 全国大会

論文No: 1-174

グループ名: 【全国大会】平成20年電気学会全国大会論文集

発行日: 2008/03/19

タイトル(英語): Flow Characteristics of 2-D He arc jet plasma along open field lines

著者名: 吉田 和行(東京工業大学),長原 洋(東京工業大学),柴田 智彦(東京工業大学),根津 篤(東京工業大学),松浦 治明(東京工業大学),赤塚 洋(東京工業大学)

著者名(英語): Kazuyuki Yoshida(Tokyo Institute of Technology),Yoh Nagahara(Tokyo Institute of Technology),Tomohiko Shibata(Tokyo Institute of Technology),Atsushi Nezu(Tokyo Institute of Technology),Haruaki Matsuura(Tokyo Institute of Technology),Hiroshi Akatsuka(Tokyo Institute of Technology)

キーワード: 開放端磁場|イオン加速|マッハプローブ|電位降下

要約(日本語): 開放端磁場を流れる低温ヘリウムアークジェットプラズマの軸，半径方向のイオンマッハ数，流れ方向，電子温度，密度，プラズマ電位を4方向マッハプローブにより測定した． 4方向マッハプローブの測定から電磁石中心でプラズマはほぼ軸方向に流れており，正しく流れ方向を測れていることが確認できる。また，電磁石内の均一磁場中において，磁力線が軸方向であるにもかかわらず，電磁石内壁に近いr = 25 mmで半径方向成分のかなりの流れを持っていることが確認できる．これは，電磁石内において中心から電磁石内壁へ電位降下があるため，イオンが電場によっても半径方向に加速されているためと考えられる．

原稿種別: 日本語

PDFファイルサイズ: 879 Kバイト