CH4プラズマ中のCxHy蓄積によるイオン・ラジカル生成への影響

カテゴリ: 全国大会

論文No: 1-203

グループ名: 【全国大会】平成20年電気学会全国大会論文集

発行日: 2008/03/19

タイトル(英語): Effect of CxHy Accumulation in CH4 Plasma on the Production of Ions and Radicals

著者名: 日詰 洋平(北海道大学),沖田 篤士(北海道大学),小田 昭紀(名古屋工業大学),菅原 広剛(北海道大学),須田 善行(北海道大学),酒井 洋輔(北海道大学)

著者名(英語): Youhei Hizume(Hokkaido University),Atsushi Okita(Hokkaido University),Akinori Oda(Nagoya Institute of Technology),Hirotake Sugawara(Hokkaido University),Yoshiyuki Suda(Hokkaido University),Yosuke Sakai(Hokkaido University)

キーワード: 流体モデル|シミュレーション|カーボンナノチューブ|RFプラズマ|ハイドロカーボンプラズマ

要約(日本語): CH4 RF 容量結合型プラズマ(RF CCP)中のCNT成長寄与種を見積もるため、RF CCPの計算機解析を行っている。プラズマ中での高次の分子CxHy蓄積がイオン･ラジカル生成量に与える影響を見積もった。CxHy蓄積を考慮することで平均電子エネルギーが大幅に低下することが計算によりわかった。低下により、電離・解離反応のレートが大幅に低下すると見積もられた。その結果、イオン・ラジカルの生成量が全体として大幅に減少する可能性が指摘された。CxHy蓄積を考慮することで、従来のモデルと比べてより正確なイオン･ラジカル生成量の見積もりが可能になると考えられる。

原稿種別: 日本語

PDFファイルサイズ: 661 Kバイト