Ar-N2パルス変調誘導熱プラズマ下流部における NおよびN2+放射強度の動的変化

カテゴリ: 全国大会

論文No: 1-211

グループ名: 【全国大会】平成20年電気学会全国大会論文集

発行日: 2008/03/19

タイトル(英語): Dynamic Evolution in Radiation Intensity of N and N2+ at Downstream region of Ar-N2 Pulse Modulated Induction Thermal Plasmas

著者名: 伊藤 智幸(金沢大学),林 耕平(金沢大学),田中 康規(金沢大学),上杉 喜彦(金沢大学)

著者名(英語): Tomoyuki Ito(Kanazawa University),Kohei Hayashi(Kanazawa University),Yasunori Tanaka(Kanazawa University),yoshihiko Uesugi(Kanazawa University)

キーワード: 誘導熱プラズマ|窒化処理|アルゴン･窒素混合ガス

要約(日本語): 現在，高温熱プラズマのもつ高い反応性を用いて，高速窒化処理を行うことが試みられている。熱プラズマを用いた窒化処理において重要なパラメータは被照射物の表面温度と，励起窒素原子などの反応性窒素粒子の存在である。これまでに筆者らは，パルス変調プラズマPMITPを用いれば，プラズマ下流部に流入する熱流束を減少させ，同時に励起窒素原子数を増加できることを見出している。本報では窒化処理位置でのプラズマからの発光スペクトル放射強度を，分光計測器によって測定した。窒素系粒子のスペクトル観測することにより，PMITPの窒化用熱源としての特性を検討した。また変調時と無変調時の周期平均スペクトル放射強度を比較し，パルス変調による窒素系粒子への影響を検討した。

原稿種別: 日本語

PDFファイルサイズ: 1,133 Kバイト