RFプラズマ支援レーザーアブレーションによる窒化炭素薄膜の作製

カテゴリ: 全国大会

論文No: 1-212

グループ名: 【全国大会】平成20年電気学会全国大会論文集

発行日: 2008/03/19

タイトル(英語): Fabrication of Carbon Nitride Films Deposited by RF Plasma Assisted Laser Ablation

著者名: 木村 康宏(豊橋技術科学大学),安井 利明(豊橋技術科学大学),福本 昌宏(豊橋技術科学大学)

著者名(英語): Yasuhiro Kimura(Toyohashi University of Technology),Toshiaki Yasui(Toyohashi University of Technology),Masahiro Hukumoto(Toyohashi University of Technology)

キーワード: 窒化炭素

要約(日本語): 本研究では，PLD法によって作製した窒化炭素について，イオン衝撃及び基材温度が皮膜の特性に与える影響を調査した．成膜には，YAGレーザーを用いて，真空チャンバー内を窒素雰囲気にして皮膜を作製した．イオン衝撃には，基材とターゲット間にRFにより負バイアスをかけ，窒素イオンの基材への衝突を促進した．皮膜の解析には，XPSによる原子組成比（N／C）及びsp3結合比を調べ，皮膜の構造についてSEM及びTEMにより解析を行った．その結果，皮膜に含まれる原子組成比及びsp3結合比は40Wで最大を示し，また，基材温度が高いほど，原子組成比及びsp3結合比は向上する傾向を示した．

原稿種別: 日本語

PDFファイルサイズ: 1,952 Kバイト