異方性厚膜磁石の磁気特性向上に関する検討

カテゴリ: 全国大会

論文No: 2-130

グループ名: 【全国大会】平成20年電気学会全国大会論文集

発行日: 2008/03/19

タイトル(英語): Progress in magnetic properties in thick film magnets

著者名: 武田 浩之(長崎大学),柳井 武志(長崎大学),中野 正基(長崎大学),福永 博俊(長崎大学),山下 文敏(松下電器産業)

著者名(英語): Hiroyuki Takeda(Nagasaki University),Takeshi Yanai(Nagasaki University),Masaki Nakano(Nagasaki University),Hirotoshi Fukunaga(Nagasaki University),Fumitoshi Yamashita(Matsushita Electric Industrial Co.)

キーワード: 厚膜磁石

要約(日本語): 厚膜磁石の異方化は、「使用される方向」といった制限が加わるものの、「磁気特性の向上」には有効な手法である。そのような観点より、スパッタリング法などを利用した異方性厚膜磁石の作製例は、等方性のものに比べ多い。我々はこれまでに、高速成膜を特徴とするPLD(Pulsed Laser Deposition)法を用い「Nd-Fe-B系異方性厚膜磁石」の作製を試みてきた。その結果、磁気的にも結晶学的にも異方化が確認でき残留磁化の向上などを実現してきた。しかしながら、その保磁力は500 kA/m程度の値にとどまっており、電子デバイスへの応用を鑑みた際の「熱的安定性」に問題を抱えていた。本稿では、添加物を利用した等方性厚膜磁石の保磁力増加(3)にヒントを得て、Gaを添加した異方性厚膜磁石の特性が向上する事を確認したので報告する。

原稿種別: 日本語

PDFファイルサイズ: 1,005 Kバイト