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応力下パルス熱処理を施したFe系薄帯

応力下パルス熱処理を施したFe系薄帯

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カテゴリ: 全国大会

論文No: 2-131

グループ名: 【全国大会】平成20年電気学会全国大会論文集

発行日: 2008/03/19

タイトル(英語): Fe-based ribbon prepared by pulse annealing under tensile stress

著者名: 柳井武志 (長崎大学),大宅敏郎 (長崎大学),高橋賢一郎 (長崎大学),中野正基 (長崎大学),福永博俊 (長崎大学)

キーワード: パルス熱処理|応力誘導磁気異方性|透磁率制御

要約(日本語): 電源回路部にて直流重畳磁界下で動作する磁気デバイスには,透磁率を数百程度に制御した軟磁性材料が所望される.この要求に対し我々は,応力下熱処理を施したFe系非晶質薄帯を用い作製したトロイダルコアが,優れた磁気特性を示すことを報告してきた.近年,電子機器の更なる小型化が所望され,より磁化の高い材料開発が強く所望されている.我々が扱ってきたFe-Cu-Nb-Si-B薄帯では,CuやNb等の添加元素の働きにより安定したナノ組織が形成され,低磁気損失を示すものの,一方で,飽和磁化の低下を招いていた.本研究では,今後の添加物の削減を鑑み,微細組織の形成が期待される応力下パルス熱処理を用い,Fe系薄帯を作製し,その基礎特性を評価した.

原稿種別: 日本語

PDFファイルサイズ: 797 Kバイト

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