回路共振を用いたNiFe薄膜パターン交流磁化率変調測定

カテゴリ: 全国大会

論文No: 2-138

グループ名: 【全国大会】平成20年電気学会全国大会論文集

発行日: 2008/03/19

タイトル(英語): Detection of field induced susceptibility modulation for NiFe pattern with circuit resonance

著者名: 張 明(九州大学),吉村 哲(九州大学),能崎 幸雄(九州大学),松山公秀 (九州大学)

著者名(英語): Ming Zhang(Kyushu University),Satoru Yoshimura(Kyushu University),Yukio Nozaki(Kyushu University),Kimihide Mastuyama(Kyushu University)

キーワード: 磁性薄膜ドットパターン|交流磁化率|回路共振

要約(日本語): 本研究は軟磁性薄膜の微小交流磁界に対する磁化率が，直流バイアス磁界により変調可能であることに着目し，回路共振を利用した薄膜交流磁化率の高感度検出実験を行った．今回，素子の微細化の観点から，軟磁性薄膜パターンにおける交流磁化率の測定を行い，その結果を報告する．

原稿種別: 日本語

PDFファイルサイズ: 1,223 Kバイト