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磁化率変調効果を利用した可変薄膜インダクタの試作

磁化率変調効果を利用した可変薄膜インダクタの試作

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カテゴリ: 全国大会

論文No: 2-170

グループ名: 【全国大会】平成20年電気学会全国大会論文集

発行日: 2008/03/19

タイトル(英語): Variable Thin Film Inductor Using Effect of Susceptibility Modulation

著者名: 西野 浩平(九州大学),吉村 哲(九州大学),能崎 幸雄(九州大学),松山 公秀(九州大学)

著者名(英語): Kouhei Nishino(Kyushu University),Satoru Yoshimura(Kyushu University),Yukio Nozaki(Kyushu University),kimihide Matsuyama(Kyushu University)

キーワード: 可変インダクタ

要約(日本語): 軟磁性薄膜の磁化率がバイアス直流磁界によって変調可能であることを利用した可変インダクタの試作及び特性評価を行った。インダクタ下部にパーマロイパターンを配置し、外部磁界を掃引しながらインダクタンスを測定したところ、インダクタンスの変化を観測できた。磁性体パターンの形状を変化させ、形状磁気異方性やパーマロイの充填率を変化させると、それに対応したインダクタンスの変化を得た。このことから、外部磁界印加およびパターン形状によってインダクタンスを制御できることが分かった。

原稿種別: 日本語

PDFファイルサイズ: 933 Kバイト

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