レジスト現像特性の露光波長依存性を応用した厚膜レジストの3次元微細加工技術

カテゴリ: 全国大会

論文No: 3-096

グループ名: 【全国大会】平成20年電気学会全国大会論文集

発行日: 2008/03/19

タイトル(英語): Wavelength Dependency of Thick-Photoresist Dissolution Property and Application to 3-Dimensional Microstructuring

著者名: 平井 義和(京都大学),菅野 公二(京都大学),土屋 智由(京都大学),田畑 修(京都大学)

著者名(英語): Yoshikazu Hirai(Kyoto University),Koji Sugano(Kyoto University),Toshiyuki Tsuchiya(Kyoto University),Osamu Tabata(Kyoto University)

キーワード: 3次元微細加工技術|厚膜レジスト|紫外線リソグラフィ

要約(日本語): 厚膜レジストの3次元微細加工技術である移動マスクUV露光技術の応用展開を目的に，「ポジ型レジスト現像特性の露光波長依存性」に着目した3次元微細加工技術を新規に提案する．これまでにポジ型レジスト現像特性（DNQノボラック系レジスト）の露光波長依存性に着目し，3次元加工技術へ適用した報告はない．まずレジスト現像特性の露光波長依存性について実験的に明らかにし，レジスト光化学反応の観点からその妥当性について考察した．次にその結果を移動マスクUV露光法へ適用した結果，3次元形状の露光波長依存性を確認した．以上の結果からレジスト現像特性の露光波長依存性を3次元加工形状の制御へ応用することが有効であることを確認した．

原稿種別: 日本語

PDFファイルサイズ: 3,095 Kバイト