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100nm狭ギャップを有するディスク型振動子形成のための複合露光とDRIE

100nm狭ギャップを有するディスク型振動子形成のための複合露光とDRIE

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カテゴリ: 全国大会

論文No: 3-097

グループ名: 【全国大会】平成20年電気学会全国大会論文集

発行日: 2008/03/19

タイトル(英語): A mixed lithography and DIRE for annular disk resonator with 100nm gap

著者名: 高野 貴之(産業技術総合研究所),昆野舜夫 (産業技術総合研究所),李 東建(産業技術総合研究所),池原 毅(産業技術総合研究所),三原 孝士(オリンパス)

著者名(英語): Takayuki Takano(National Institute of Advanced Industrial Science and Technology),Mitsuo Konno(National Institute of Advanced Industrial Science and Technology),Dongkeon Lee(National Institute of Advanced Industrial Science and Technology),Tsuyoshi Ikehara(National Institute of Advanced Industrial Science and Technology),Takashi Mihara(Olympus Corp.)

キーワード: 振動型センサ|EBリソグラフィ|ドライエッチング|DRIE

要約(日本語): ディスク型静電駆動振動子において、駆動力を得るためにはギャップ間隔を狭くする必要があり、特に数100nmといったギャップを形成するには、プロセス方法を工夫する必要がある。我々はディスク型振動子に対してパターニング精度を維持しながら工程を簡略化するために、100nmのギャップにのみEB露光機を、それ以外のパターンにはステッパーを用いたリソグラフィ手法を開発した。また100nmギャップのエッチングに対してEBレジストの選択比を考慮に入れながら、スキャロップがほぼ無く極めて垂直な形状になるエッチングレシピを開発し、幅100nm、深さ2μmの狭ギャップを形成した。このデバイス形成手法に関して報告する。

原稿種別: 日本語

PDFファイルサイズ: 904 Kバイト

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