X線マスク直接露光による構造体の作製

カテゴリ: 全国大会

論文No: 3-114

グループ名: 【全国大会】平成20年電気学会全国大会論文集

発行日: 2008/03/19

タイトル(英語): Fabrication of X-ray mask structure by direct exposure

著者名: 高橋 正樹(兵庫県立大学),辻井 浩(兵庫県立大学),嶋田 和真(兵庫県立大学),矢代 航(東京大学),野田 大二(兵庫県立大学),服部 正(兵庫県立大学)

著者名(英語): Naoki Takahashi(University of Hyogo),Hiroshi Tujii(University of Hyogo),Kazuma Shimada(University of Hyogo),Wataru Yashiro(The University of Tokyo),Daiji Noda(University of Hyogo),tadashi Hattori(University of Hyogo)

キーワード: X線|X線リソグラフィ

要約(日本語): 本研究では試料の表面粗さやX線マスクの表面粗さによって、ギャップが生じる従来のX線リソグラフィとは異なり、X線マスク上にレジストを塗布して、直接露光することによってX線マスクと試料との間にあったギャップを無くし、X線マスク上に高アスペクト比構造体の作製をおこなった。作製したX線マスク上の構造体にAuめっきをした。X線マスク上にライン＆スペース1対1、ピッチ5.3μm、Au厚さ11μmの構造体が作製できた。今後は作製したX線マスク上の構造体にレジストを塗布して直接露光を行い、めっきする。これを繰り返すことによって、さらに高アスペクト比構造体の作製を行っていく。

原稿種別: 日本語

PDFファイルサイズ: 1,818 Kバイト