ICP-RIE装置による高精度X線マスクの作製

カテゴリ: 全国大会

論文No: 3-115

グループ名: 【全国大会】平成20年電気学会全国大会論文集

発行日: 2008/03/19

タイトル(英語): Fabrication of precise X-ray mask using ICP-RIE

著者名: 辻井 浩(兵庫県立大学),嶋田 和真(兵庫県立大学),矢代 航(東京大学),野田 大二(兵庫県立大学),服部 正(兵庫県立大学)

著者名(英語): Hiroshi Tsujii(University of Hyogo),Kazuma Shimada(University of Hyogo),Wataru Yashiro(The University of Tokyo),Daiji Noda(University of Hyogo),Tadashi Hattori(University of Hyogo)

キーワード: ドライエッチング|X線マスク|リソグラフィ|Si|ICP|めっき

要約(日本語): 高アスペクト比構造体の作製にはSR光を用いたLIGAプロセスが用いられる。従来のUVリソグラフィだけではプロセスに用いるX線マスクの高精度化が難しい。X線マスクの精度は最終製品の精度に大きく関わる。そこで本研究ではUVリソグラフィに微細加工が可能なSiドライエッチング工程を加えX線マスクの作製を行った。作製したSi構造体にCrをスパッタすることによりシード層を形成し、幅2.6μmの狭所に高さ6.2μmのAuを埋め込むことができた。今後はX線マスクを完成させ、X線リソグラフィを行うことで、ICP-RIE装置を用いて作製した高精度X線マスクの有用性を明らかにしていく。

原稿種別: 日本語

PDFファイルサイズ: 965 Kバイト