転写技術を用いた静電容量型小型傾斜センサの作製

カテゴリ: 全国大会

論文No: 3-121

グループ名: 【全国大会】平成20年電気学会全国大会論文集

発行日: 2008/03/19

タイトル(英語): Fabrication of Micro Capacitive Inclination Sensor by Transcript Technology

著者名: 三宅 弘晃(兵庫県立大学),石澤 直也(兵庫県立大学),糸魚川 貢一(東海理化),植田 寛康(東海理化),船曳陽一 (ナノクリエート),西田 諭史(ナノクリエート),野田 大二(兵庫県立大学),服部 正(兵庫県立大学)

著者名(英語): Hiroaki Miyake(University of Hyogo),Naoya Ishizawa(University of Hyogo),Koichi Itoigawa(TOKAI RIKA CO.,LTD.),Hiroyasu Ueda(TOKAI RIKA CO.,LTD.),Yoichi Hunabiki(NANOCREATE CO.,LTD.),Satoshi Nishida(NANOCREATE CO.,LTD.),Daiji Noda(University of Hyogo),Tadashi Hattori(University of Hyogo)

キーワード: 静電容量型小型傾斜センサ|転写|共通電極

要約(日本語): 本研究では、転写技術を用いた静電容量型小型傾斜センサ作製プロセスの確立を目指している。今回作製を行っている静電容量型小型傾斜センサは、センシング部の大きさが5mm×5mm×3mmと小型であるため多くの姿勢制御を必要とする分野での利用が期待できる。またこのプロセスは、樹脂成形を用いることにより従来のMEMSプロセスに比べ生産コストを低く抑えることが出来る。そのため、他のデバイス作製への応用が期待される。本研究では、共通電極作製までのプロセスを行った。ホットエンボス装置を利用して、高さ40µmある金型パターンの転写に成功し、成型パターンに全面Cuスパッタした後、不要なCuを除去して共通電極を完成させた。

原稿種別: 日本語

PDFファイルサイズ: 2,032 Kバイト