多孔質クロム薄膜とその赤外線吸収膜への応用

カテゴリ: 全国大会

論文No: 3-147

グループ名: 【全国大会】平成20年電気学会全国大会論文集

発行日: 2008/03/19

タイトル(英語): Porous Chromium thin film and its application to the infrared absorption film

著者名: 木村光照 (東北学院大学),保原優智 (東北学院大学)

キーワード: 赤外線|赤外線吸収|薄膜|クロム|多孔質

要約(日本語): 銅（Cu）とクロム（Cr）とを含むタ?ゲットからのスパッタリング薄膜から銅をエッチング除去することによる多孔質クロム薄膜を作成し、これを赤外線吸収膜として応用する。赤外線受光部に付着力が大きく、経時変化の極めて少なく、アルカリ性エッチャントに耐性が大きく、フォトエッチングによるパターン化が容易でMEMS構造に最適な赤外線吸収膜となり、Si基板の温度依存性を含む基礎的な特性が得られた。

原稿種別: 日本語

PDFファイルサイズ: 1,261 Kバイト