HMDSガス中の電離係数測定

カテゴリ: 全国大会

論文No: 1-076

グループ名: 【全国大会】平成21年電気学会全国大会論文集

発行日: 2009/03/15

タイトル(英語): Measurement of ionization coefficient in HMDS vapor

著者名: 佐藤藍 (北見工業大学),吉田 公策(北見工業大学),富田 一商(北見工業大学)

著者名(英語): Ran Sato(Kitami Institute of Technology),Kosaku Yoshida(Kitami Institute of Technology),Kazuaki Tomita(Kitami Institute of Technology)

キーワード: HMDS|電離係数|SST|ATS

要約(日本語): 今回,筆者らは有機ELディスプレイの封止膜作成に用いられている,ヘキサメチルジシラザン(NH(Si(CH3)3)2,HMDS)中の電離係数についてSST(Steady State Townsend)法を用いて測定を行ったので報告をする．測定は換算電界E/N=400~2000[Td]の範囲で,ギャップ長2~30 [mm],圧力0.07~1.3 [Torr],温度19~27 [℃]の条件下で行った．従来の報告にあるATS法で得られたHMDS電離係数α/Nの妥当性をチェックするために,SST法でα/Nを測定した結果,両者はほぼ一致し,その妥当性を概ね検証できた．しかし,ATSとの差異や標準偏差が大きい箇所が残されており,その解消に向けて今後実験を重ねる予定である．

原稿種別: 日本語

PDFファイルサイズ: 757 Kバイト