パルスレーザーアブレーションにより生成された窒化炭素膜の評価

カテゴリ: 全国大会

論文No: 1-173

グループ名: 【全国大会】平成21年電気学会全国大会論文集

発行日: 2009/03/15

タイトル(英語): The evaluation of CNX film by the pulse laser ablation

著者名: 柳澤 敬(富山大学),萱原功一 (富山大学),北村 岩雄(富山大学),伊藤 弘昭(富山大学),升方 勝己(富山大学)

著者名(英語): Yanagisawa Takashi(University of Toyama),Kayahara Koichi(University of Toyama),Kitamura Iwao(University of Toyama),Ito Hiroaki(University of Toyama),Masugata Katsumi(University of Toyama)

要約(日本語): 窒化炭素材料は高硬度材料として保護膜や切削工具などへの幅広い応用が期待されている。現在、窒化炭素を合成する方法として物理蒸着（PVD）と化学蒸着（CVD）に大別される。本研究では比較的簡単な装置で実験ができるPVDの一種であるレーザーアブレーションを用い、窒素ガス圧を変化させて堆積させた窒化炭素薄膜の評価を行った。

原稿種別: 日本語

PDFファイルサイズ: 643 Kバイト