回転磁場プラズマによるリソグラフィ用極端紫外光源の開発

カテゴリ: 全国大会

論文No: 1-184

グループ名: 【全国大会】平成21年電気学会全国大会論文集

発行日: 2009/03/15

タイトル(英語): Development of EUV Light source for Lithography using Rotating Magnetic Field Plasam

著者名: 近野智規 (関西大学),塚本匡宣 (関西大学),大西正視 (関西大学),大澤穂高 (関西大学),Hugrass Waheed(タスマニヤ大学)

著者名(英語): Tomonori/Chikano (Kansai University),Masanobu/Tsukamoto (Kansai University),Masami/Ohnishi (Kansai University),Hodaka/Osawa (Kansai University),Waheed/Hugrass (University of Tasmania)

キーワード: リソグラフィ|EUV|放電プラズマ

要約(日本語): 次世代VLSI製作のリソグラフィのため出力140W程度で波長13.5nmのEUV光の開発が必要とされている。現在、Zピンチによる放電プラズマ方式あるいはレーザ生成プラズマ方式で研究が進められているが、これらの方式ではデブリと呼ばれる微粒子の発生を伴い、シリコンウェハを汚染させ、その解決は困難であると思われる。 本装置では定常状態の高周波(200kHz)を用いた放電により安定してプラズマを生成し、真空容器内に電極を設置しないためデブリが発生することもなく、EUVの発生が可能である。現在、半径30mmの円形プラズマにより5W程度のEUV光の生成を確認しており、今後プラズマ半径を3倍程度にすることにより140W程度のEUVの発生が得られるものと思われる。

原稿種別: 日本語

PDFファイルサイズ: 1,302 Kバイト