プラズマCVD法により形成したナノカーボン膜の電気特性の評価

カテゴリ: 全国大会

論文No: 1-198

グループ名: 【全国大会】平成21年電気学会全国大会論文集

発行日: 2009/03/15

タイトル(英語): Electrical Characterization of Nanostructured Carbon Films Prepared by Plasma-Enhanced CVD

著者名: 嶋田 翔三郎(九州大学),中島誠宏 (九州大学),池田 知弘(九州大学),堤井君元 (九州大学)

著者名(英語): Shozaburo Shimada(Kyushu University),Masahiro Nakashima(Kyushu University),Tomohiro Ikeda(Kyushu University),Kungen Teii(Kyushu University)

キーワード: プラズマCVD|アモルファスカーボン　|グラフェン|ナノ構造|半導体

要約(日本語): 本研究では、2.45GHzマイクロ波プラズマCVD法によって形成した異方性形状をもつカーボンナノウォール膜の電気伝導特性と、膜中の炭素結合状態の相関等について調べた。得られたナノウォール膜の室温での電気伝導率は、最大で100 S/cm程度であり、膜中の炭素結合状態と強い相関があることが分かった。また電気伝導率の温度依存性は小さいことから、それらナノウォール膜は、半導体よりもむしろ半金属的な電気伝導特性を示し、フェルミ準位付近に連続的な準位を有すると予想される。

原稿種別: 日本語

PDFファイルサイズ: 761 Kバイト